• Pad de Abrillantado y Sellado
• Ideal para abrillantar (lustrar) y para aplicar tu cera o sellador favorito
• Espuma ultra suave y de nula abrasividad
• Acabado espejo
• Eliminación total de hologramas y logrando la máxima profundidad de brillo
• Diseño de perfil bajo (23mm)
• Altura reducida por lo que disminuye las fuerzas de torsión, lo que se traduce en una mayor estabilidad
• Espuma de celda abierta
• Máximo rendimiento
• Mejora la disipación del calor y ofrece una durabilidad superior
• Resiste el uso profesional intensivo.
• Todo tipo de pulidora
• ⁠Medidas: 5”

PAD DE ABRILLANTADO Y SELLADO

La Herramienta para la Perfección Absoluta

Después de horas de un arduo trabajo de corrección de pintura, los pasos finales son los que definen un trabajo bueno de uno extraordinario. El Polish & Sealing Foam Pad de Koch-Chemie es la herramienta de precisión diseñada para esas dos tareas cruciales: el lustrado final para un brillo perfecto y la aplicación segura de la capa de protección.

Dos Tareas Críticas, Un Pad Especializado

Este pad de espuma amarilla ultra suave tiene una doble personalidad:

- Como Pad de Lustre: Es el compañero ideal de los pulimentos antihologramas. Su estructura de poro fino refina la pintura al más alto nivel, creando una claridad y una profundidad de color espectaculares.

- Como Pad Aplicador: Es la forma más segura y eficiente de aplicar ceras líquidas y selladores con máquina. Garantiza una capa increíblemente delgada y uniforme, lo que mejora el rendimiento del producto y facilita su retirada.

El Toque Final del Sistema Koch-Chemie

No arriesgues tu trabajo de pulido aplicando la cera a mano o con un pad inadecuado. Completa el sistema Koch-Chemie con la herramienta diseñada específicamente para el acabado y la protección, y entrega resultados consistentemente impecables.

FICHA TÉCNICA:

• Marca: Koch Chemie
• Modelo: Fine Cut Foam Pad
• Tipo: Pad Corte Medio
• Respaldo: Velcro
• Abrasividad: Corte Medio / Fino
• Pulidora Compatible: Todo tipo de pulidora: Rotativa, Roto Orbital, Orbital, Rotación Forzada.